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利用在步驟1002中提供的其他參數來接收發射線圈的驅動電壓和操作頻率。一旦確定了來自發射線圈的電磁場,在步驟1008中就可以確定由于這些場而在金屬目標中生成的渦電流。根據渦電流,可以仿真由目標生成的磁場。在步驟1010中,確定由于由發射線圈生成的場和由金屬目標中的感應渦電流生成的場的組合而在接收器線圈中生成的電壓。在步驟1011中,針對目標的現行位置再次執行電感l的計算,以評估l相對于步驟1003的結果的變化。在步驟1012中,存儲響應數據以供將來參考。在步驟1014中,算法704進行檢查以查看掃描是否已經完成。如果未完成,則算法704進行到步驟1018,在步驟1018處,金屬目標的當前位置遞增,然后進行到步驟1004,在步驟1004處開始對該位置的仿真。如果掃描完成,則算法704進行到步驟1016,在步驟1016處,仿真結束,并且算法返回到圖7a所示的算法700的步驟706。仿真和根據仿真對線圈的重新配置(在圖7a中,仿真步驟704、比較步驟706、決策步驟708和設計調整步驟712)應足夠快,以在短時間段內測試大量的線圈設計配置。在通過算法700獲得經優化的線圈設計之前,可以使用數百甚至數千次仿真。因此,存在一些模型簡化,這盡管基本上不影響仿真的準確性。傳感器線圈的正常工作影響到整個系統的正常運行;貴州傳感器線圈廠家直供
部分314、部分316、部分318和部分320允許余弦定向線圈112覆蓋在pcb上。然而,通孔306和pcb322的相對的兩側上的跡線302和跡線304的存在降低了由線圈104檢測到的信號的有效幅度。有效地,通孔306在發射線圈106和信號線圈104之間形成間隙距離,這本身對位置定位系統的準確性有很大的影響。這還與以下相結合:由于在pcb322的頂側和底側上都形成了信號線圈104的跡線,而導致的金屬目標124和pcb322上的信號線圈104之間的有效氣隙的增加。圖3b示出另一個關于對稱性的問題,其中,發射線圈106與接收線圈104是不對稱的。在圖3b所示的情況下,接收線圈104不以發射線圈106為中心,并且形成與接收線圈104和發射線圈106的連接的跡線也不對稱。圖3c示出由發射線圈106生成的磁場強度的不均勻性。如圖3c所示,發射線圈106的兩條跡線位于圖上的位置0和位置5處,而接收線圈104被定位在位置0和位置5之間。圖3c示出這些跡線之間的磁場在兩條跡線之間具有小值。圖3c沒有示出由于連接圖3c中所示的兩條跡線并且垂直于圖3c中所示的跡線的兩條跡線而引起的另外的變形(distortion)。圖3d和圖3e還示出可能由發射線圈106中的位移引起的不準確性。如圖3d和圖3e所示,發射線圈106包括位移330。山東傳感器線圈廠家無錫東英電子有限公司傳感器線圈;
例如塊體積元素(brickvolumetricelement)、部分元素等效電路(peec)或基于體積積分公式的方法,其可以提供對由實際三維電流承載結構所產生的磁場進行估計的進一步的提高。金屬目標通??梢杂蓪щ姳砻姹硎?。如圖10a所示,算法704在步驟1002處開始。在步驟1002中,獲得描述tx線圈和rx線圈、目標的幾何形狀、氣隙規范和掃描規范的pcb跡線設計。這些輸入參數例如可以由算法700提供,要么在算法700的輸入步驟702期間通過初始輸入,要么從來自算法700的線圈調整步驟712的經調整的線圈設計來提供,如圖7a所示。算法704然后進行到步驟1003。在步驟1003中,算法704以在步驟1002中設置的頻率參數計算發射線圈(tx)的跡線的電阻r和電感l。在不存在目標的情況下執行計算,以給出品質因數的估計q=2πfl/r。在步驟1004中,設置參數以仿真特定線圈設計的性能和在步驟1002中接收的線圈設計的氣隙,其中金屬目標如在掃描參數中定義的被設置在現行位置。如果這是次迭代,則將現行位置設置為在步驟1002中接收到的數據中所定義的掃描的起點。否則,將位置設置為掃描中的當前定義的位置。在步驟1006中,確定由發射線圈生成的電磁場。
作用及分類編輯作用1、維持發電機端電壓在給定值,當發電機負荷發生變化時,通過調節磁場的強弱來恒定機端電壓。2、合理分配并列運行機組之間的無功分配。3、提高電力系統的穩定性,包括靜態穩定性和暫態穩定性及動態穩定性,分類按整流方式可分為旋轉式勵磁和靜止式勵磁兩大類。其中旋轉式勵磁又包括直流交流和無刷勵磁;靜勵磁止式勵磁包括電勢源靜止勵磁機和復合電源靜止勵磁機。一般我們把根據電磁感應原理使發電機定子形成旋轉磁場的過程稱為勵磁.勵磁分類方法很多,比如按照發電機勵磁的交流電源供給方式來分類:傳感器線圈推薦,無錫東英電子有限公司值得信賴,歡迎有需求的朋友們聯系我司!
該方法可以在圖7a的步驟704、步驟706、步驟708和步驟712所示的迭代算法中自動完成,并且在步驟704中使用仿真代碼和在步驟712中使用線圈設計代碼以收斂于優設計。然后可以在eda工具的幫助下,將在步驟710中輸出的經改進的設計線圈印刷在pcb上??梢砸耘c實現現有設計非常相同的方式來實現全新的設計。具體地,可以將新設計輸入到算法700的步驟702,并且可以執行算法700以優化線圈設計。然后可以將在算法700的步驟710中輸出的經優化的線圈設計輸入到算法720,并且可以實際產生該設計以進行測試。如上所述,算法720然后可以驗證經優化的線圈設計的操作。算法700的步驟712中執行的線圈設計工具可用于根據在步驟704中由仿真工具執行的仿真,使用步驟712的線圈設計工具來設計pcb上的正弦和余弦的幾何形狀。如算法700所示的用于優化線圈設計的迭代算法包括步驟704中的仿真工具和步驟712中的線圈設計工具。具體地,算法700在步驟706中計算小位置誤差,并且在步驟706、步驟708和步驟712中小化rx線圈的非理想性。利用在此優化之后獲得的坐標,可以使用商業eda工具印刷pcb,如步驟710所示。本發明的實施例可用于產生用于位置定位系統的線圈設計。傳感器線圈哪家服務好,無錫東英電子有限公司為您服務!期待您的來電!天津小型傳感器線圈
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步驟730可以針對其準確性驗證在步驟724中執行的仿真。在步驟732中,如果仿真與測量結果匹配,則算法720進行到步驟734,在此線圈設計已經被驗證。在步驟732中,如果仿真結果與物理測量結果不匹配,則算法720進行到步驟736。在步驟736中,如果所執行的算法720為對由算法700所產生的線圈設計的驗證,則修改算法700的輸入設計,并返回算法700。在一些實施例中,在步驟736中產生錯誤,指示仿真未正確地運行,因此仿真自身需要進行調整以便更好地仿真特定位置定位系統中的所有非理想性。在那種情況下,步驟736也可以是模型校準算法。因此,在本發明的一些實施例中,可以通過迭代地提供當前線圈設計的仿真,然后根據該仿真修改線圈設計,直到線圈設計滿足期望的規范為止,來產生優化的線圈設計。在一些情況下,作為后一步,將物理產生并測試經優化的線圈設計,以確保仿真與物理測量的屬性相匹配。無論目標是優化還是重新設計pcb上的舊線圈設計,或者無論目標是沒計還是優化pcb上的新線圈設計,該過程都有助于優化線圈設計??梢愿鶕惴?20驗證pcb上的現有線圈設計,并根據算法700進行潛在地改進該線圈設計??梢允褂秒娮釉O計自動化(eda)或計算機輔助設計。貴州傳感器線圈廠家直供
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水處理watertreatment)從使用紫外線殺菌燈的方法來分,有直接把燈放入水中,稱為浸沒式;紫外線燈放入紫外線消毒器腔體中的套管里使用,稱為過流式紫外線消毒器。目前主要采用的過流式紫外線消毒器, 。
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印花布活性染料的色漿穩定性要好,即活性染料低溫時反應性要低,便于調漿和印花,染料水解少,印花后經高溫在堿劑作用下染料方可與纖維反應形成共價鍵結合,因此,低溫X型(普施安MX型)活性染料一般不適用于印花 。
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